【Nature子刊重磅成果驗證】LaurellWS-650HZ-15NPPB大尺寸勻膠機：實現大面積石墨烯膜規模化制備的關鍵裝備近日，國際期刊《NatureChemicalEngineering》發表重要研究《大規模合成CO?選擇性多孔單層石墨烯膜》。該研究實現石墨烯膜成功制備，其中關鍵工藝步驟——聚合物機械增強層均勻涂覆，正是由Laurell大尺寸勻膠機WS-650HZ-15NPPB完成的。在研究中，該型號勻膠機被用于旋涂PTMSP聚合物溶液于石墨烯表面，形成厚度約1.2μ...

NXQ8000系列掩膜曝光機是一種高精度的光刻設備，廣泛應用于半導體制造、微電子器件和納米技術領域。該系列機型以其性能和先進的技術特點，成為了行業內的重要工具。NXQ8000系列掩膜曝光機的核心功能：1.高分辨率：NXQ8000系列能夠實現亞微米級的分辨率，適應現代集成電路對細節精度的要求。2.快速曝光速度：該系列設備具備高速曝光的能力，能夠顯著提高生產效率，滿足大規模生產的需求。3.多層次曝光：支持多層次的圖案曝光，允許在同一片硅片上進行復雜的多重圖案結構制作。4.智能化控...

在材料科學的微觀世界里，一滴水的形狀，往往決定了一項技術的成敗。它是均勻成膜還是收縮成珠？是牢固附著還是輕易脫落？這些問題的答案，就隱藏在液滴與固體表面交界處那個微小的夾角——接觸角之中。而精準捕捉并解讀這一角度的儀器，正是現代科研與工業中的接觸角測量儀。它如同一只“智慧之眼”，透過一滴水的形態，洞察材料表面的本質，指導著從前沿科研到規模化生產的各個環節。一、原理簡述：一滴水背后的科學語言接觸角（θ）是液體在固體表面達到平衡時，氣-液-固三相接觸點處，氣-液界面切線與固-液界...

引言薄層電阻（又稱方塊電阻）是表征薄膜材料導電性能的關鍵參數，直接影響光電器件、柔性電子及新型材料的研發與應用。傳統的四點探針法雖為行業標準，但其尖銳探針易對敏感薄膜造成機械損傷，導致測量誤差甚至樣品失效。Ossila四點探針系統通過創新的探頭設計與精密的接觸控制，實現了對脆弱材料的非破壞性、高精度測量，為科研與工業檢測提供了可靠解決方案。一、四點探針法的原理與挑戰四點探針法通過四個等間距共線探針接觸樣品表面，外側兩探針注入恒定電流，內側兩探針測量電壓差，結合幾何校正因子計算...

濕法顯影：精準噴淋，LaurellEDC-650Hz-8NPPB如何重塑工藝均勻性與潔凈度在半導體和微納制造中，顯影工藝是光刻過程中承上啟下的關鍵一步，其均勻性、重復性與潔凈度直接決定圖形轉移的精度與良率。傳統浸泡式顯影因其操作簡便而被廣泛使用，但在片內均勻性、化學品污染控制、工藝重復性等方面存在顯著瓶頸。近年來，以LaurellEDC-650Hz-8NPPB為代表的集成式濕法處理系統，通過噴淋-浸沒復合工藝、閉環控制與模塊化設計，正在重新定義濕法工藝的標準。傳統浸泡式顯影的...

隨著納米科技的發展，納米壓印光刻技術作為一種新興的微納加工技術，逐漸受到廣泛關注。在這一領域，Nanonex公司憑借其創新的納米壓印光刻機，推動了先進制造技術的發展，尤其在半導體、光電子和生物傳感器等領域展現了巨大的應用潛力。Nanonex納米壓印光刻機的工作原理：1.模具準備：首先，使用電子束光刻、X射線光刻或其他方法制備出具有納米級特征的模具。這些模具通常由硅或金屬材料制成，表面具有高精度的微細結構。2.涂布光刻膠：將光刻膠均勻涂布在基材表面。光刻膠是一種具有可塑性的材料...